국내 최초로 개발된 질소 주입 방식의 LPM은 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 이송 시 외부 오염과 수분에 의한 수율 저하를 획기적으로 방지합니다. 고순도 질소 환경을 구현하여 미세공정의 안정성과 생산성을 극대화하며, 글로벌 IDM(종합반도체기업)들이 채택하는 표준 장비로 자리잡았습니다. 일본산 대비 우수한 기술력으로 해외 시장에서도 경쟁력을 인정받고 있습니다.
압력전환흡착(PSA) 기술을 기반으로 한 현대힘스의 산업용 산소 및 질소 발생기는 자체 개발된 핵심 분리공정과 제어시스템을 적용하여 고순도의 가스를 안정적으로 공급합니다. 에너지 효율성과 내구성이 뛰어나며 반도체·제약·식음료·금속산업 등 다양한 산업 현장에 최적화된 솔루션을 제공합니다.
NXC Series 질소발생장치는 고순도의 질소를 연속적으로 생산하여 반도체 제조·레이저 가공·정밀전자 등 다양한 분야에서 안정적이고 경제적인 질소 공급을 실현합니다. 최신 분리막 및 PSA(Pressure Swing Adsorption) 기술이 적용되어 설치 공간이 적고 유지관리 비용이 낮으며 친환경적입니다.
밀성산업가스는 산소, 질소, 아르곤, 수소, 헬륨 등 5종의 고순도 산업용 가스를 자체 정제 및 혼합 설비를 통해 생산합니다. 반도체, 의료, 용접, 레이저 가공 등 다양한 산업 현장에서 요구되는 고품질, 고순도 가스를 안정적으로 공급하며, 고객 맞춤형 혼합가스 충전 서비스도 제공합니다. 첨단 설비와 엄격한 품질관리로 산업 현장의 효율성과 안전을 동시에 실현합니다.
최첨단 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 필수적인 고순도 질소산화물(N₂O)은 원익머트리얼즈의 독자적 정제·혼합 기술로 생산되어, 삼성전자와 SK하이닉스 등 글로벌 고객사에 안정적으로 공급됩니다. 순도 99.999% 이상의 품질을 자랑하며, 메모리(DRAM, NAND), 비메모리 반도체 및 OLED/LCD 패널 생산에서 핵심 소재로 사용됩니다.
SK머티리얼즈에어플러스의 초고순도 질소(GN2)는 반도체, 디스플레이, 석유화학 등 첨단 산업 현장에서 필수적으로 사용되는 고순도 산업용 가스입니다. 웨이퍼 공정에서 원료물질의 운반, 산화 방지, 반응기 내 불활성 분위기 조성 등 다양한 용도로 활용되며, 대규모 ASU(공기분리장치)를 통해 생산되어 고객사 인근에 파이프라인, 벌크, 온사이트 등 다양한 방식으로 안정적으로 공급됩니다. SK하이닉스 등 국내 주요 반도체 기업에 장기 공급 계약을 통해 신뢰받는 품질과 공급 안정성을 자랑합니다.
