(주)디엔에프

DNF의 DN-1200은 반도체 회로 형성에 필수적인 CVD/ALD 공정용 알루미늄 전구체로, 미세 패턴 구현과 박막 증착에서 탁월한 순도와 일관성을 자랑합니다. 고순도의 화학적 안정성과 우수한 증착 특성으로 글로벌 파운드리 및 메모리 제조사의 신뢰를 받고 있으며, 차세대 반도체 소자의 집적화와 성능 향상에 기여하는 핵심 소재입니다.

• 반도체소재
• 알루미늄전구체
• CVD전구체
• ALD공정
• 박막증착

HCDS는 DNF가 공급하는 고순도의 실리콘계 전구체로서 D램 등 메모리 소자 유전막 및 절연막 증착 공정에 사용됩니다. 뛰어난 휘발성과 균일한 막질을 제공하여 미세회로의 신뢰성을 높이며, 글로벌 반도체 제조사의 첨단 라인에서 채택되는 프리미엄 소재입니다.

• 헥사클로로디실란
• 실리콘프리커서
• 유전막증착
• 메모리반도체소재
• ALD/CVD공정

플렉시블 디스플레이 시장을 겨냥해 개발된 이 SiO₂ 프리커서는 무기 박막 봉지층 형성에 최적화되어 있습니다. 수분·산소 차단 성능이 뛰어나고 저온 공정에서도 우수한 막질을 구현하여 OLED 패널의 내구성과 신뢰도를 극대화합니다.

• OLED봉지재료
• 플렉시블디스플레이소재
• 실리카프리커서
• 무기박막증착제
• 디스플레이보호소재