(주)세미즈

200mm Asher SMS202는 반도체 제조 공정에서 사용되는 식각(Asher) 장비로, 정밀한 플라즈마 식각 기술을 바탕으로 웨이퍼 표면의 유기물 및 오염물 제거에 최적화되어 있습니다. 고효율 공정 제어와 안정적인 성능을 제공하여 반도체 생산라인의 생산성 향상과 품질 확보에 기여합니다. 다양한 반도체 제조 환경에 맞춘 맞춤형 솔루션을 지원하며, 신뢰성 높은 엔지니어링 서비스와 함께 공급됩니다.

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Dry Etcher는 반도체 제조 공정에서 핵심적인 건식 식각 장비로, 플라즈마를 이용해 미세 패턴을 정밀하게 형성하는 데 사용됩니다. 세미즈의 Dry Etcher는 오랜 경험과 기술력을 바탕으로 고품질의 식각 성능과 공정 안정성을 제공하며, 최신 반도체 생산 환경에 최적화된 설계와 신속한 A/S 지원으로 고객 만족도를 높입니다. Cleanroom 기반의 생산 및 특화된 리페어 서비스도 함께 제공되어, 반도체 제조사의 생산 효율을 극대화합니다.

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