(주)이노맥스

Wet Station은 반도체 제조 공정에서 웨이퍼의 세정, 식각, 박리 등 다양한 습식 공정을 자동화하는 첨단 장비입니다. 고효율의 세정 성능과 정밀한 공정 제어 기능을 갖추고 있어 미세 공정에서의 오염 방지와 생산성 향상에 최적화되어 있습니다. 다양한 공정 조건에 맞춘 맞춤형 설계와 안전 시스템을 적용하여 반도체 제조 현장의 품질과 효율을 극대화합니다.

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Spin Processor는 반도체 웨이퍼 표면에 균일한 박막을 형성하거나 세정액을 분사해 오염을 제거하는 고속 회전식 장비입니다. 정밀한 회전 제어와 다양한 용액 분사 기능을 통해 미세 패턴의 균일한 코팅 및 세정이 가능하며, 생산 라인의 자동화와 공정 효율성을 크게 높여줍니다. 반도체, 디스플레이 등 첨단 산업 분야의 핵심 공정에 최적화된 솔루션입니다.

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ASTRO는 반도체 제조용 특수 공정 장비로, 고도의 정밀성과 신뢰성을 바탕으로 다양한 반도체 생산 라인에 적용됩니다. 자동화된 제어 시스템과 모듈형 설계로 고객의 다양한 요구에 유연하게 대응하며, 생산성 향상과 품질 안정성을 동시에 실현합니다. 첨단 반도체 제조 환경에 최적화된 고성능 장비입니다.

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