세메스(주)

블루아이스 프라임은 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 표면의 불순물 제거와 식각 균일도를 극대화한 고온 매엽식 인산 세정장비입니다. 자체 개발 척(Chuck) 기술로 170℃ 이상 고온에서 웨이퍼 중앙과 가장자리의 온도 균일도를 확보하며, 기존 습식 세정 대비 불순물 제거율을 90% 이상 향상시켰습니다. 약액 재사용 기술로 친환경성과 경제성을 동시에 실현한 첨단 세정 솔루션입니다.

오메가 프라임은 반도체 포토공정용 차세대 불화크립톤(KrF) 스피너로, 웨이퍼에 감광액을 균일하게 도포하고 고정밀 노광 및 현상 공정을 지원합니다. 일본 독점 시장을 대체할 수 있는 국산화 장비로, 시간당 웨이퍼 처리능력을 20% 이상 개선하여 생산성과 수율을 크게 높였습니다. 자동 보정 및 자동화 시스템을 적용해 미세회로 형성의 정밀도를 극대화합니다.

퓨리타스는 국내 최초로 개발된 플라즈마 타입 반도체 건식 세정장비로, 리모트 플라즈마 방식을 적용해 기판 손상을 최소화하면서 고선택적 측면 식각 및 세정이 가능합니다. 3D-DRAM, CFET, GAA 등 차세대 반도체 공정에 필수적인 장비로, 기존 습식 세정의 한계를 극복하고 다양한 막질의 고정밀 세정 및 생산성 향상을 실현합니다.