(주)원익머트리얼즈

최첨단 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 필수적인 고순도 질소산화물(N₂O)은 원익머트리얼즈의 독자적 정제·혼합 기술로 생산되어, 삼성전자와 SK하이닉스 등 글로벌 고객사에 안정적으로 공급됩니다. 순도 99.999% 이상의 품질을 자랑하며, 메모리(DRAM, NAND), 비메모리 반도체 및 OLED/LCD 패널 생산에서 핵심 소재로 사용됩니다.

• 반도체특수가스
• 고순도가스
• N2O가스
• 디스플레이공정용가스
• K반도체

고순도의 암모니아 가스는 첨단 반도체와 디스플레이 제조 공정에서 불순물을 최소화하여 수율과 신뢰성을 극대화합니다. 원익머트리얼즈는 자체 정제 및 혼합 기술을 바탕으로 국내외 시장에 맞춤형 NH₃를 공급하며 품질과 안전성 모두를 확보한 산업용 특수가스를 제공합니다.

• 암모니아가스
• 반도체공정용가스
• 초고순도가스
• 산업용특수가스
• 화학소재

사불화탄소(C₄F₈)는 플라즈마 식각(Etching) 공정 등 첨단 반도체 제조 라인에서 미세패턴 형성에 활용되는 핵심 특수가스로서 뛰어난 안정성과 균일한 품질을 제공합니다. 원익머트리얼즈의 C₄F₈은 글로벌 표준을 충족하는 고품질 소재로 인정받으며 다양한 전자부품 생산 현장에 적용되고 있습니다.

• 사불화탄소가스
• 플라즈마식각가스
• 미세패턴공정용가스
• 첨단반도체재료
• 전자산업특수가스