(주)삼양세라텍

반도체 식각 공정에서 사용되는 소모성 부품으로, 실리콘 웨이퍼를 고정하고 플라즈마를 집중시켜 식각밀도를 균일하게 유지하며 웨이퍼 오염을 방지합니다. 삼양세라텍은 국내 최초로 열간 가압 방법을 적용한 B4C(탄화붕소) 포커스링 제조 기술과 자체 개발 장비를 통해 품질 및 원가 경쟁력을 확보하였으며, 고온·플라즈마 내성이 뛰어난 소재와 혁신적 공정으로 반도체 산업의 공급망 안정에 기여합니다.

• 반도체부품
• 포커스링
• 탄화붕소(B4C)
• 식각공정
• 플라즈마내성

고온·고압 환경에서 세라믹 및 특수 신소재의 소결과 성형에 사용되는 핵심 장비입니다. 삼양세라텍은 독자적인 열간가압 기술을 바탕으로 연구기관 및 대기업에 맞춤형 설계를 제공하며, 높은 온도 제어 정밀성과 안전성을 갖춘 시스템으로 다양한 첨단 소재 개발과 양산 공정을 지원합니다.

• 열간가압로
• 세라믹소결장치
• 신소재개발장비
• 연구개발설비
• 고온공정

∅1500mm급 대형 세라믹 가공이 가능한 진공장치 등 다양한 특수목적용 진공장비를 자체 기술력으로 제작하여 외산 대비 가격경쟁력과 빠른 유지보수를 제공합니다. 부스터 펌프와 고압밸브 등 주요 구성품까지 국산화하여 고객 맞춤 솔루션을 제공하며 반도체·디스플레이·첨단 소재 분야의 생산 효율 향상에 기여합니다.

• 대형세라믹장치
• 진공설비
• 반도체제조지원
• 국산화기술
• 산업자동화